Plasma processes for semiconductor fabrication

Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Hitchon, W. Nicholas G.
Formaat: Printed Book
Taal:English
Gepubliceerd in: Cambridge Cambridge University Press 1999
Onderwerpen:
Semiconductors - Etching > Plasma etching > Semiconductor fabrication - Plasma physics > Plasma reactors

UL

Exemplaargegevens van UL
Plaatsingsnummer: 621.382:533.9 HIT
Kopie Status is onbeschikbaar

Gelijkaardige items