Plasma processes for semiconductor fabrication

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Hitchon, W. Nicholas G.
التنسيق: Printed Book
اللغة:English
منشور في: Cambridge Cambridge University Press 1999
الموضوعات:
Semiconductors - Etching > Plasma etching > Semiconductor fabrication - Plasma physics > Plasma reactors

UL

تفاصيل المقتنيات من UL
رقم الطلب: 621.382:533.9 HIT
النسخة الحالة المباشرة غير متاحة

مواد مشابهة