Hitchon, W. N. G. (1999). Plasma processes for semiconductor fabrication. Cambridge University Press.
Stile di citazione ChicagoHitchon, W. Nicholas G. Plasma Processes for Semiconductor Fabrication. Cambridge: Cambridge University Press, 1999.
Citazione MLAHitchon, W. Nicholas G. Plasma Processes for Semiconductor Fabrication. Cambridge University Press, 1999.
Attenzione: Queste citazioni potrebbero non essere precise al 100%.