טוען...

Chemical vaper deposition, Thermal & plasma deposition of electronic materials

מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Sivaraman, S.
פורמט: Printed Book
שפה:English
יצא לאור: New York Van Nostrand reinheld 1995
נושאים:

UL

פרטי מלאי ספרים מ UL
סימן המיקום: 621.3.049.77 SIV
עותק סטטוס עדכני לא זמין