Cargando...
Chemical vaper deposition, Thermal & plasma deposition of electronic materials
Autor principal: | |
---|---|
Formato: | Printed Book |
Lenguaje: | English |
Publicado: |
New York
Van Nostrand reinheld
1995
|
Materias: |
UL
Número de Clasificación: |
621.3.049.77 SIV |
---|---|
Copia | Estatus de actividad no disponible |