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Chemical vaper deposition, Thermal & plasma deposition of electronic materials

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Sivaraman, S.
Format: Printed Book
Sprache:English
Veröffentlicht: New York Van Nostrand reinheld 1995
Schlagworte:

UL

Bestandesangaben von UL
Signatur: 621.3.049.77 SIV
Exemplar Live-Status nicht verfügbar