Chemical vaper deposition, Thermal & plasma deposition of electronic materials

Podrobná bibliografie
Hlavní autor: Sivaraman, S.
Médium: Printed Book
Jazyk:English
Vydáno: New York Van Nostrand reinheld 1995
Témata:
Microelectronics industry > Chemical vapour deposition > Micro electronics-materials

UL

Informace o exemplářích z: UL
Signatura: 621.3.049.77 SIV
Jednotka Neznámá aktuální dostupnost

Podobné jednotky