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Silicon devices and process integration : deep submicron and nano-scale technologies /
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Printed Book |
| Idioma: | English |
| Publicado em: |
New York :
Springer,
2009.
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| Assuntos: |
PHY
| Área/Cota: |
621.381/7 ELK |
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| Cód. Barras: | Informação em tempo real indisponível |