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Silicon devices and process integration : deep submicron and nano-scale technologies /
Auteur principal: | |
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Format: | Printed Book |
Langue: | English |
Publié: |
New York :
Springer,
2009.
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Sujets: |
PHY
Cote: |
621.381/7 ELK |
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Exemplaire | Statut en temps réel indisponible |