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Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes /

Dettagli Bibliografici
Autore principale: Luft, Werner
Altri autori: Tsuo, Y. Simon
Natura: Printed Book
Lingua:English
Pubblicazione: New York : M. Dekker, c1993.
Serie:Applied physics series (Marcel Dekker, Inc.) ; 1.
Soggetti:
Thin film devices--Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Thin films--Optical properties > Thin films--Electric properties.
  • Posseduto
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  • MARC21

PHY

Dettagli sul posseduto da PHY
Collocazione: 621.3815/2 LUF
Copia Status in tempo reale non disponibile

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