Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes /

מידע ביבליוגרפי
מחבר ראשי: Luft, Werner
מחברים אחרים: Tsuo, Y. Simon
פורמט: Printed Book
שפה:English
יצא לאור: New York : M. Dekker, c1993.
סדרה:Applied physics series (Marcel Dekker, Inc.) ; 1.
נושאים:
Thin film devices--Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Thin films--Optical properties > Thin films--Electric properties.

PHY

פרטי מלאי ספרים מ PHY
סימן המיקום: 621.3815/2 LUF
עותק סטטוס עדכני לא זמין

פריטים דומים