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Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes /

Détails bibliographiques
Auteur principal: Luft, Werner
Autres auteurs: Tsuo, Y. Simon
Format: Printed Book
Langue:English
Publié: New York : M. Dekker, c1993.
Collection:Applied physics series (Marcel Dekker, Inc.) ; 1.
Sujets:
Thin film devices--Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Thin films--Optical properties > Thin films--Electric properties.
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PHY

Informations d'exemplaires de PHY
Cote: 621.3815/2 LUF
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