Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes /

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Luft, Werner
Otros Autores: Tsuo, Y. Simon
Formato: Printed Book
Lenguaje:English
Publicado: New York : M. Dekker, c1993.
Colección:Applied physics series (Marcel Dekker, Inc.) ; 1.
Materias:
Thin film devices--Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Thin films--Optical properties > Thin films--Electric properties.

PHY

Detalle de Existencias desde PHY
Número de Clasificación: 621.3815/2 LUF
Copia Estatus de actividad no disponible

Ejemplares similares