Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes /

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Luft, Werner
Weitere Verfasser: Tsuo, Y. Simon
Format: Printed Book
Sprache:English
Veröffentlicht: New York : M. Dekker, c1993.
Schriftenreihe:Applied physics series (Marcel Dekker, Inc.) ; 1.
Schlagworte:
Thin film devices--Design and construction > Silicon alloys > Plasma-enhanced chemical vapor deposition > Thin films--Optical properties > Thin films--Electric properties.

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Signatur: 621.3815/2 LUF
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