Đang tải...
Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
Tác giả chính: | |
---|---|
Định dạng: | Ph.D Thesis |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
|
Những chủ đề: |
UL
Số hiệu: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
---|---|
Sao chép | Trạng thái trực tiếp không khả dụng |