Ładuje się......
Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
1. autor: | |
---|---|
Format: | Ph.D Thesis |
Język: | English |
Wydane: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
|
Hasła przedmiotowe: |
UL
Sygnatura: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
---|---|
Egzemplarz | Możliwość dostępu nieznana |