Wordt geladen...
Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
Hoofdauteur: | |
---|---|
Formaat: | Ph.D Thesis |
Taal: | English |
Gepubliceerd in: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
|
Onderwerpen: |
UL
Plaatsingsnummer: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
---|---|
Kopie | Status is onbeschikbaar |