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Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
Autore principale: | |
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Natura: | Ph.D Thesis |
Lingua: | English |
Pubblicazione: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
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Soggetti: |
UL
Collocazione: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
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Copia | Status in tempo reale non disponibile |