טוען...
Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
מחבר ראשי: | |
---|---|
פורמט: | Ph.D Thesis |
שפה: | English |
יצא לאור: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
|
נושאים: |
UL
סימן המיקום: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
---|---|
עותק | סטטוס עדכני לא זמין |