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Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: Rajeev Kumar K.
Format: Ph.D Thesis
Sprache:English
Veröffentlicht: Kochi Dept. of Physics - CUSAT 1989
Schlagworte:

UL

Bestandesangaben von UL
Signatur: 539.216:537.311:546.28 RAJ
Exemplar Live-Status nicht verfügbar