Načítá se...
Electrical conduction and dielectrical behavior of thin films of vaccum evaporated amorphus silicon, Hydrogenate amorphus silicon and chemically deposite cadmium sheets
| Hlavní autor: | |
|---|---|
| Médium: | Ph.D Thesis |
| Jazyk: | English |
| Vydáno: |
Kochi
Dept. of Physics - CUSAT
1989
|
| Témata: |
UL
| Signatura: |
539.216:537.311:546.28 RAJ |
|---|---|
| Jednotka | Neznámá aktuální dostupnost |